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高嶺土插層效果表征影響因素

時(shí)間:2014-05-08 09:50:19

作者:世邦機(jī)器

紅外光譜(IR):紅外光譜可以準(zhǔn)確地記錄高嶺石中-OH伸縮振動(dòng)峰的位置、形狀、強(qiáng)度及其變化。羥基的伸縮振動(dòng)是羥基外部環(huán)境的靈敏指示劑。在高嶺石的紅外光譜的高頻區(qū)域(3000〜4000cm-1),存在四個(gè)伸縮振動(dòng)峰,它們分別位于3695cm-1、3668cm-1、3652cm-1和3620cm-1,其中3695cm-1、3668cm-1、3652cm-1,這三個(gè)峰屬于高嶺石層間表面的羥基(稱(chēng)為內(nèi)表面羥基)振動(dòng)峰,當(dāng)羥基的外部環(huán)境受到擾動(dòng)時(shí),-OH伸縮振動(dòng)峰的位置、形狀及強(qiáng)度等會(huì)發(fā)生相應(yīng)的變化。高嶺石的內(nèi)羥基位于硅氧四面體和鋁氧八面體之間,其峰值位于3620.5cm-1。由于內(nèi)羥基不可能與插入的客體分子接觸,因此,內(nèi)羥基的伸縮振動(dòng)峰不會(huì)由于插入反應(yīng)而發(fā)生變化,而位于高嶺石層間表面的羥基,即內(nèi)表面羥基則較容易受到插入分子的影響。當(dāng)不同的有機(jī)分子插入高嶺石層間時(shí),由于對(duì)高嶺石內(nèi)表面羥基的影響不同,其內(nèi)表面羥基的伸縮振動(dòng)峰也發(fā)生不同的變化。而內(nèi)羥基則不發(fā)生相應(yīng)的變化。因此,在比較有機(jī)分子插入高嶺石層間導(dǎo)致羥基振動(dòng)峰強(qiáng)度的變化時(shí),通常是以3620cm-1峰的強(qiáng)度為標(biāo)準(zhǔn)。

水合肼、脲、二甲基亞砜、甲酰胺、二甲基甲酰胺、乙酰胺、乙酸鉀等有機(jī)分子插入高嶺石層間,都會(huì)對(duì)高嶺石的內(nèi)表面羥基產(chǎn)生一定的影響。但由于它們與高嶺石內(nèi)表面羥基發(fā)生作用的官能團(tuán)不一樣,因而對(duì)高嶺石以及高嶺土生產(chǎn)線(xiàn)內(nèi)表面羥基紅外光譜產(chǎn)生的影響也不一樣。例如,甲酰胺、乙酰胺等分子不僅可以作為質(zhì)子接受體,接受內(nèi)表面羥基給出的質(zhì)子,而形成氫鍵,而且還可以作為質(zhì)子給予體,給出質(zhì)子,與四面體片上的氧原子形成氫鍵。

張生輝等(2006)利用熔融狀態(tài)下乙酰胺對(duì)高嶺石進(jìn)行插層,制備了高嶺石/乙酰胺插層復(fù)合物。紅外分析表明,插層作用使得高嶺石內(nèi)表面羥基伸縮振動(dòng)峰由3651cm-1移動(dòng)至3647cm-1處,變形振動(dòng)峰由911cm-1移動(dòng)至907cm-1處;乙酰胺3211cm-1和3390cm-1處―NH2基伸縮振動(dòng)峰消失,并且在3478cm-1處產(chǎn)生一個(gè)新的振動(dòng)峰,這些表明原高嶺石層間氫鍵的損失及與乙酰胺分子之間氫鍵的形成。高嶺石內(nèi)羥基的吸收峰由3616cm-1移動(dòng)至3611cm-1處,以及其硅氧面的骨架振動(dòng)峰變化表明乙酰胺的甲基中CH嵌入高嶺石的復(fù)三方空穴中。

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